Druk 3D w skali nanometrycznej przez długi okres czasu wydawał się osiągalny jedynie dla wąskiego grona osób. Aż do teraz. Nanoscribe, niemiecka firma działająca w branży nanotechnologicznej przedstawiła nowe urządzenie – Quantum X, które wykorzystując metodę litografii dwufotonowej pozwala na wytwarzanie przyrostowe struktur o wysokości nawet 200 mikronów.
Jest to pierwsze na świecie urządzenie, które działa w technologii 2GL (two-photon grayscale lithography), co oznacza, że klasyczną metodę litografii dwufotonowej, która została wzbogacona o możliwość druku 3D nie w jednym kolorze, a w dwóch odcieniach szarości. Zdaniem dr. Michael’a Thiel, współzałożyciela Nanoscribe, optymalizacja technologii pod kątem wytwarzania może usprawnić prace naukowców nad zagadnieniami z dziedziny nanotechnologii, dając szansę szybkiego wytwarzania precyzyjnych nanowydruków.
Wcześniejsze urządzenia od Nanoscribe wykorzystywane są w prestiżowych ośrodkach naukowych, takich jak Uniwersytet Harvarda, Kalifornijski Instytut Techniczny, ETH w Zurychu czy japoński Uniwersytet Keio. Firma jest uczestniczy również w międzynarodowym projekcie, który zakłada wykorzystanie opracowanej technologii na potrzeby przemysłu.
System Quantum X został zaprezentowany na trwających obecnie targach LASER World of Photonics 2019 w Monachium. Twórcy podkreślają, że urządzenie jest dedykowane przede wszystkim branży optycznej, a w szczególności tworzeniu dyfrakcyjnych elementów optycznych (DOE) – za sprawą oszałamiającej precyzji wykonywania wydruków urządzenie z powodzeniem znajdzie zastosowanie w w procesach szybkiego prototypowania mikrooptyki oraz produkcji na potrzeby badań i rozwoju.
